室蘭工業大学蔵書検索システム
ログイン
  • 目録検索 検索メニュー ▼
  • マイライブラリ マイライブラリ ▼
    • 利用状況確認・貸出延長
    • ブックマーク
    • お気に入り検索
    • 新着アラート
    • 文献複写申込
    • 図書借用申込
    • 図書購入リクエスト

室蘭工業大学蔵書検索システム

検索結果一覧へ戻る

プロセスの基礎

西沢潤一編. -- 工業調査会, 1983. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術 ; 7). <TW00081896>
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

プロセスの基礎

西沢潤一編. -- 工業調査会, 1983. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術 ; 7). <TW00081896>
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

所蔵一覧 1件～1件（全1件）

ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。

No. 巻冊次等 配置場所・配架マップ 資料ID 請求記号 禁帯出区分 状態 返却期限日 備考 予約件数
0001 1F電動書庫(64-86：和図書) 079934 549.7/H29/v.20 帯出可 0件
No. 0001
巻冊次等
配置場所・配架マップ 1F電動書庫(64-86：和図書)
資料ID 079934
請求記号 549.7/H29/v.20
禁帯出区分 帯出可
状態
返却期限日
備考
予約件数 0件
このページのTOPへ
このページのTOPへ

書誌詳細

標題および責任表示 プロセスの基礎 / 西沢潤一編
プロセス ノ キソ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1983.8
形態事項 10, 394p : :挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 4769310323
書誌構造リンク 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <TW00117384> 20 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 7//bb
注記 各章末: 参考文献
学情ID BN00282815
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-2018)||ニシザワ, ジュンイチ <AU00303305>
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
このページのTOPへ
検索結果一覧へ戻る
このページのTOPへ

  • 関連情報

    関連資料

    他の検索サイトで探す

    NII書誌検索

    他の図書館から取り寄せる

    • 文献複写申込.
    • 図書借用申込.

    この書誌のQRコード