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イオンビームによる薄膜設計

山田公著. -- 共立出版, 1991. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 15). <TW00117438>
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イオンビームによる薄膜設計

山田公著. -- 共立出版, 1991. -- (表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 15). <TW00117438>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻冊次等 配置場所・配架マップ 資料ID 請求記号 禁帯出区分 状態 返却期限日 備考 予約件数
0001 2F一般図書 415098 549.8/Y19 帯出可 0件
No. 0001
巻冊次等
配置場所・配架マップ 2F一般図書
資料ID 415098
請求記号 549.8/Y19
禁帯出区分 帯出可
状態
返却期限日
備考
予約件数 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 イオンビームによる薄膜設計 / 山田公著
イオン ビーム ニ ヨル ハクマク セッケイ
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 1991.9
形態事項 v, 114p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4320085159
書誌構造リンク 表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編||ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ <TW00117439> 15//a
注記 文献: 各章末
学情ID BN06866284
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU00322290>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム
件名標目等 薄膜||ハクマク
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